净化工程要求及工作范围
在一定的工程要求范围内，在一定的空间内进行去污，排除空气中的颗粒，有害的空气污染物，细菌等，以及室内温度，清洁度，压力，空气速度和空气分布，噪声，振动和照明，静电控制。经过专门设计的去污房间，无论外部空气变化如何，内部都保持了原始设定的清洁度，温湿度和压力性能要求。比湍流所描述的洁净室更精确，更全面。取决于雷诺数湍流，去污是速度的主要影响，但发送HEPA过滤器的空气形式，即使流速很低，也能产生上述结果，山东净化公司觉得这是因为它是流动的突变且非-流量均匀。
在洁净室布置中进行净化处理，公司必须遵守有关安全，防火，环保和职业健康要求的现行国家规范；洁净室净化工程的布置应充分考虑人员和后勤安排。要轻松流畅。
净化工程公司首先要了解洁净室的设计洁净室设计的目的是洁净室的净化工程的用途，使用特点，生产工艺等，设计用于集成电路生产中的洁净室去污。首先，要阐明产品的特性-集成度，尺寸和工艺特性。
在空间设计上应考虑生产过程和洁净室净化工程中的管线，合理安排物流运输。在确定洁净平面，空间布置后，参与洁净室净化工程设计，技术要求及相关问题的每个专业人员在设计中应予以注意。
对洁净室中空气清洁度的要求等级，以及对温度和湿度的控制，抗微动，抗静电和高纯物质的供应要求；其次要充分了解业主采用生产工艺，工艺设备和工艺布局思想的意图。之后，设计人员应与所有者合作，确定每个功能区域的洁净室划分，确定各种生产过程（房间）的空气洁净度水平和各种控制参数，例如温度，相对湿度，压力，振动，高纯度和杂质含量纯物质。
并确定用于洁净车间的布置，布置，必须首先布置生产区域并在电力公用事业部门进行二次布置，通常遵循生产过程的驱动，在保证生产环境要求的条件下有利于操作，管理，帮助以节省能源并降低生产成本。
您想在将来列出具体的温度去污工艺，但作为一般原则，由于加工精度更高，因此较小的温度范围越来越大。例如在大规模集成电路光刻生产中的曝光过程中，作为玻璃的掩模材料与硅片的热膨胀系数之差越来越多。直径为100 UM的硅片，温度上升1度，它引起0.24um的线性膨胀，恒温器必须为±0.1度，而湿度通常较低，因为人们出汗，产品会被污染，去污，特别是钠半导体车间，车间不应超过25度。
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